| 书名 | 硅基高k氧化物锶硅界面缓冲层的研究/新材料研究系列丛书 |
| 分类 | 科学技术-自然科学-物理 |
| 作者 | 杜文汉 |
| 出版社 | 江苏大学出版社 |
| 下载 | 抱歉,不提供下载,请购买正版图书。 |
| 简介 | 内容推荐 Sr/Si界面在晶形高介电常数(k)氧化物-半导体体系的外延生长中具有重要的作用, 是形成外延高k氧化物必不可少的缓冲界面层。本书深入研究了不同Sr/Si再构表面的几何及电子结构,并探讨相关的物理机制。 |
| 随便看 |
|
Fahrenheit英汉词典电子书栏目提供海量电子书在线免费阅读及下载。